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芯片制造行业用超纯水

产品介绍
芯片制造行业用超纯水设备全套系统自动化程度高,系统稳定性高。芯片制造用超纯水设备拥有完美的设计、卓越的品质、精良的施工质量,有效的去除水中的杂质、重金属离子、细菌等有害物质,出水水质符合电子工业生产用水需求。
工艺设计
水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿模板外侧流动,以洗去透出膜外的离子。树脂截留水中的溶存离子。被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动。阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外。阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外。浓缩了的离子从废水流路中排出。无离子水从树脂/膜内流出。
设备特点
1、优质零部件组装,更加耐用。

2、可以随时增加膜的数量以增加处理量。

3、自我保护系统,故障急停。

4、复合膜拥有更高的分离率和透过率。

5、水利用高,能产生更多的可饮用水。

6、体积更小,使用工地面积小。

7、淡水即可冲洗符合膜。

8、部件更加耐用,长期无需维修。

9、液晶显示器用超纯水设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
技术参数
电导率:2-10μS/cm(25℃)
PH值:6.5-9
水温度:5~35℃
总硬度:<0.5ppm
有机物:<0.5 ppm,TOC为零
氧化物:≤0.05ppm
铁、锰:<0.01ppm
二氧化硅:<0.05 ppm
二氧化碳:<5ppm
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